Máster Universitario en Propiedad Intelectual y Derecho Tecnológico

Especialízate en una de las ramas legales con mayor proyección y demanda de la actualidad y conviértete en un experto legal de vanguardia. Con nuestro máster, dominarás la legislación en derechos de autor, derechos conexos, patentes, marcas y competencia desleal.
Aprenderás conceptos fundamentales del derecho tecnológico como la ciberseguridad y el régimen jurídico aplicado a la biotecnología, identidad digital, firma electrónica, inteligencia artificial, IoT, impresión 3D y blockchain así como los aspectos jurídicos especiales asociados a los contratos electrónicos, e-commerce, fiscalidad y transnacionalidad.

Para poder acceder a este máster es imprescindible:

Estar en posesión de un título universitario oficial español u otro expedido por una institución de educación superior perteneciente a otro estado integrante del Espacio Europeo de Educación superior que faculte en el mismo para el acceso a enseñanzas de Máster.

Estar en posesión de un título conforme a sistemas educativos ajenos al Espacio Europeo de Educación Superior sin necesidad de la homologación de sus títulos, previa comprobación por la Universidad de que aquéllos acreditan un nivel de formación equivalente a los correspondientes títulos universitarios oficiales españoles y que facultan en el país expedidor del título para el acceso a enseñanzas de postgrado.

El acceso por esta vía no implicará, en ningún caso, la homologación del título previo del que esté en posesión el interesado, ni su reconocimiento a otros efectos que el de cursar las enseñanzas de Máster. Titulaciones que, en el caso de estudiantes extranjeros, puedan ser consideradas equivalentes.

El Máster en Propiedad Intelectual y Derecho Tecnológico online está dirigido a licenciados o graduados en Derecho, abogados en ejercicio que busquen especializarse en esta rama legal o profesionales con experiencia probada en los ámbitos jurídicos y/o de las nuevas tecnologías.

El objetivo principal del título es que adquieras todos los conocimientos y aptitudes que necesitas para ser experto en un área legal de máxima actualidad. Podrás desarrollar las competencias que necesitas para iniciar o continuar tu carrera profesional en empresas nacionales o multinacionales, despachos especializados, gestorías u organismos nacionales cuya función esté relacionada con la propiedad intelectual e industrial.

Módulo 1. Ámbito Jurídico, Ecosistema Empresarial y Marco Deontológico (6 ECTS)
Módulo 2. Derechos de Autor: Aspectos Legales, Económicos y Morales (6 ECTS)
Módulo 3. Derecho de la Propiedad Industrial: Patentes, Marcas, Diseño Industrial e Industrias Creativas (6 ECTS)
Módulo 4. Derecho y Jurisdicción de las Tecnologías de la Información: Bases de Datos, Privacidad y Software (6 ECTS)
Módulo 5. Aspectos Jurídicos Especiales: Contratos Electrónicos, E-Commerce, Fiscalidad y Transnacionalidad (6 ECTS)
Módulo 6. Competencia y Regulación del Mercado en el Ámbito de as Nuevas Tecnologías (6 ECTS)
Módulo 7. Gestión de Activos Derivados de la Propiedad Intelectual y las Nuevas Tecnologías (6 ECTS)
Módulo 8. Ciberseguridad y Régimen Jurídico en los Ámbitos de Biotecnología, Identidad Digital, Firma Electrónica, Inteligencia Artificial, Internet de las Cosas, Impresión 3D y Blockchain (6 ECTS)
Módulo 9. Prácticas Profesionales (6 ECTS)
Módulo 10. Trabajo Fin de Máster (6 ECTS)

Nuestro Máster en Propiedad Intelectual Online constituye la oportunidad perfecta de impulsar tu carrera profesional y actualizar al máximo tu perfil especializándote en el ámbito jurídico de la tecnología.
Adquirirás la formación necesaria para ser abogado especialista en propiedad industrial e intelectual, técnico en I+D, negociador en la Organización Mundial de la Propiedad Intelectual, técnico de transferencia tecnológica o agente de propiedad industrial.
Podrás integrarte con éxito en despachos especializados en propiedad intelectual, empresas multinacionales de la industria cultural y organismos nacionales competentes en materia de propiedad industrial e intelectual.